御微半导体
御微半导体是一家以技术和市场双轮驱动,为集成电路制造提供先进装备的高新技术企业。面向集成电路制造、先进封装、化合物半导体、新型显示等领域,为客户提供具有竞争力的产品及技术解决方案。 公司聚焦于集成电路光学量检测系统设计与集成,围绕集成电路装备自主化,通过对七大核心技术的研发创新,四大重点实验室的成果转化,已经在芯片制造、掩模版制造、晶圆衬底制造和基板制造四大应用领域成功推出了具有自主知识产权的十余款量检测设备,并已持续服务于国际知名集成电路厂商。
展品推介
i12-F300系列 晶圆缺陷检测设备
产品简介:i12-F300为御微新一代全自动晶圆缺陷检测产品,显著提升检测效率和明场、暗场灵敏度,精准识别细微缺陷。产品可满足半导体产线当前研发需求和未来的生产需求,支持多种半导体工艺制程,有效保障芯片制造良率和可靠性。
HOUYI系列 晶圆套刻量测设备
产品简介:HOUYI产品名源自中国古代神话中射日之神射手后羿,代表HOUYI产品精准灵敏重复性高的产品特色,并彰显产品国产化率高的特点。HOUYI产品已发运多个国内逻辑及存储芯片客户,涵盖成熟制程及先进制程产线,取得产品验收并已经实现稳定规模量产。
Halo系列 掩模基板检测设备
产品简介:· High-sensitivity Annular Light Optics · 独有的“360°环形照明技术” · 全方位无死角覆盖检测表面,真正做到“零缺陷”。
i6R系列 掩模表面缺陷检测设备
产品简介:i6R是一款集掩模表面缺陷检测、双面清洁以及倒版功能于一身的掩模全景质量管理设备。通过多项先进技术的导入和功能优化,应用场景涵盖了晶圆厂黄光区、光罩室以及掩模版生产厂。凭借御微独创的360°照明技术,i6R产品已逐步开始建立掩模厂出货检和晶圆厂入库检的闭环管理统一标准体系。
Raptor系列 掩模图形缺陷检测设备
产品简介:Raptor系列基于御微在高精密半导体光学设备领域的技术积淀,创新融合“高分辨率透射+反射双光路同步自外成像技术”,“纳米级运动控制技术”及“超大规模图像计算技术”,可精准识别掩模版制造及光刻工艺使用周期中的图形缺陷与污染物,满足掩模厂与晶圆厂的全链条质控需求。